尽管纳米压印（NIL）和电子束曝光（EBL）等技术在某些特定应用中显示出潜力，但在当前的芯片大规模制造中，光刻技术依然是主流。尤其是在高精度、大规模生产方面，光刻机扮演着无可替代的角色。

深潮 TechFlow 消息，10 月 30 日，据官方 X 平台消息，由 zkSharding 提供支持的以太坊 L2 =nil; Foundation 宣布测试网 v1 已上线并向所有人开放，新内容包括 ...